Микрон аттестовал новую российскую суспензию

Микрон, являющийся резидентом ОЭЗ «Технополис Москва», аттестовал к использованию в серийном производстве новую суспензию отечественного производства для химико-механической полировки (ХМП). Материал прошел испытания и соответствует всем требованиям сверхчистого микроэлектронного производства.

Суспензия, которая состоит из частиц SiO2 размером 10-100 нм и химического реактива, используется в процессе химико-механической полировки для выравнивания поверхности межуровневого диэлектрика. Благодаря ей можно формировать надежные электрические соединения в системах с многоуровневой металлизацией. Быстродействие и степень интеграции ИС и полупроводниковых приборов в значительной степени зависит именно от качества межкомпонентных соединений. Эта суспензия используется на производственных линиях 180 и 90 нм.

В техпроцессах Микрона применяют сверхчистые химические материалы, реактивы, газы и смеси, включая пять типов суспензии для ХМП. Проводят активную работу по замене значимых компонентов отечественными аналогами в целях обеспечения технологического суверенитета.

По словам Гульнары Хасьяновой, гендиректора АО «Микрон», работу по импортозамещению материалов в настоящее время можно назвать одним из важных приоритетов для предприятия и отрасли в целом. Сегодня 26 компонентов, применяемых в производстве, успешно аттестованы и замещены, 28 находятся в разработке. Предприятие имеет готовность полностью перейти на использование отечественных сверхчистых материалов в техпроцессах, ведется интенсивная проработка на постоянной основе. К сотрудничеству приглашаются все заинтересованные производители.

Теги: Технополис Москва, Микрон, разработки, Зеленоград